DGAP-News: AIXTRON und IRUJA Co. Ltd. unterzeichnen Joint Venture Vereinbarung / APEVA wird zum kompletten Systemanbieter für die OLED-Deposition

AIXTRON und IRUJA Co. Ltd. unterzeichnen Joint Venture Vereinbarung

APEVA wird zum kompletten Systemanbieter für die OLED-Deposition

Herzogenrath, 24. Oktober 2018 - Die AIXTRON SE gibt heute eine Joint-Venture-Vereinbarung zwischen der AIXTRON SE, Deutschland, und der IRUJA Co. Ltd., Südkorea, zur Investition in APEVA, die AIXTRON-Tochtergesellschaft für OLED-Abscheidungstechnologien, bekannt. Der Abschluss des Joint Venture-Vertrags wird für 2018 erwartet.

IRUJA wird seine etablierte Automatisierungstechnologie für den Displaymarkt schrittweise in das Joint Venture einbringen und gleichzeitig Bareinlagen leisten. Im Gegenzug für diese Einlagen wird IRUJA in den kommenden Jahren eine Beteiligung an APEVA von bis zu 20% erlangen. Darüber hinaus wird IRUJA für APEVA zum lokalen Fertigungspartner in Korea und ermöglicht den Zugang zu lokalen, qualitativ hochwertigen Lieferanten und Fertigungsressourcen. AIXTRON hat seine innovativen OVPD-Technologien in die APEVA eingebracht, über die eine hocheffiziente und sehr gut kontrollierbare Abscheidung organischer Materialien ermöglicht wird.

Basierend auf den Beiträgen beider Muttergesellschaften wird APEVA zu einem kompletten Systemanbieter für die Abscheidung der organischen Materialschichten innerhalb des OLED-Stacks. Das Produktangebot umfasst dann die vollständigen Schlüsselmodule, von innovativen organischen Verdampfungsquellen und der Depositionsprozesstechnik bis hin zu Substrathandling-Systemen und der erforderlichen Vakuumtechnik. APEVA wird von Standorten in Herzogenrath (für Depositionstechnologie) und Asan-si, Chungcheongnam-do, Südkorea (für Automatisierungs- und Handling-Technologie sowie lokalen Kundensupport) in unmittelbarer Nähe zu großen OLED-Kunden operieren.

Die von IRUJA in das Joint Venture eingebrachte Automatisierungs- und Handling-Technologie hat sich in der Displayindustrie bestens bewährt und ist bekannt für ihre hohe Zuverlässigkeit. Sie ist in der Lage jährlich mehr als 15.000 Substrate pro Display-Fertigungslinie bei maximaler Betriebszeit und minimalem durch Bruch verursachten Substratverlust zu verarbeiten.

APEVA evaluiert derzeit seine OVPD-basierte (Organic Vapor Phase Deposition) Technologie in Zusammenarbeit mit einem großen asiatischen OLED-Displayhersteller: Ein Prototyp in Gen1-Größe ist bei diesem Kunden seit über einem Jahr im Einsatz. Ein größerer Gen2-Prototyp wird derzeit im Werk des Kunden installiert. Eine erfolgreiche Qualifikation der Technologie vorausgesetzt, soll voraussichtlich in 2019 ein Kundenauftrag für eine erste OVPD-Depositionskammer in Produktionsgröße eingehen.

Basierend auf den patentierten STExS- (Short Thermal Exposure Source) und OVPD-Depositionstechnologien bietet APEVA deutliche Vorteile gegenüber der bestehenden VTE-Technologie: Sie erhält die Integrität der empfindlichen organischen Materialien durch Schnellverdampfung nur am Einsatzort, was zu einer längeren Lebensdauer der OLED-Displays führt. Darüber hinaus hat die APEVA-Technologie einen deutlich reduzierten Platzbedarf sowie erheblich geringere Betriebskosten durch die Möglichkeit der Co-Deposition organischer Materialien und eine bedeutend höhere Effizienz bei der Materialnutzung.

Eine Präsentation ist auf der AIXTRON homepage unter https://www.aixtron.com/de/investoren/news verfügbar.

Kontakt:

Guido Pickert
Investor Relations und Konzernkommunikation
T: +49 (2407) 9030-444
F: +49 (2407) 9030-445
invest@aixtron.com

Über AIXTRON
Die AIXTRON SE ist ein führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Unternehmen wurde 1983 gegründet und hat seinen Sitz in Herzogenrath (Städteregion Aachen) sowie Niederlassungen und Repräsentanzen in Asien, den USA und Europa. Die Produkte der Gesellschaft werden weltweit von einem breiten Kundenkreis zur Herstellung von leistungsstarken Bauelementen für elektronische und opto-elektronische Anwendungen auf Basis von Verbindungs- oder organischen Halbleitermaterialien genutzt. Diese Bauelemente werden in einer Vielzahl innovativer Anwendungen, Technologien und Industrien eingesetzt. Dazu gehören beispielsweise LED- und Displaytechnologie, Datenspeicherung und -übertragung, Energiemanagement und -umwandlung, Kommunikation, Signal- und Lichttechnik sowie viele weitere anspruchsvolle High-Tech-Anwendungen.

Weitere Informationen über AIXTRON (FWB: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6) sind im Internet unter www.aixtron.com verfügbar.

Über IRUJA
IRUJA ist Marktführer für Sputter-Systeme für die koreanische und chinesische OLED-Display-Industrie mit mehr als zehn Jahren Erfahrung und einem Marktanteil von etwa 90%. IRUJA ist bekannt für die Zuverlässigkeit seiner Systeme, insbesondere für die Stabilität seiner Software-Stapel- und Automatisierungssysteme, sowie für seine Kundenorientierung und schnelle Projektabwicklung. IRUJA ist ein privat geführtes Unternehmen mit einem Jahresumsatz von 200 Millionen Euro (GJ 2017) und 220 Mitarbeitern (Dez. 2017).

Zukunftsgerichtete Aussagen
Dieses Dokument kann zukunftsgerichtete Aussagen über das Geschäft, die Finanz- und Ertragslage und Gewinnprognosen von AIXTRON enthalten. Begriffe wie "können", "werden", "erwarten", "rechnen mit", "erwägen", "beabsichtigen", "planen", "glauben", "fortdauern" und "schätzen", Abwandlungen solcher Begriffe oder ähnliche Ausdrücke kennzeichnen diese zukunftsgerichteten Aussagen. Solche zukunftsgerichtete Aussagen geben die gegenwärtigen Beurteilungen, Erwartungen und Annahmen des AIXTRON Managements, von denen zahlreiche außerhalb des AIXTRON Einflussbereiches liegen, wieder und gelten vorbehaltlich bestehender Risiken und Unsicherheiten. Sie sollten kein unangemessenes Vertrauen in die zukunftsgerichteten Aussagen setzen. Sollten sich Risiken oder Ungewissheiten realisieren oder sollten zugrunde liegende Erwartungen zukünftig nicht eintreten beziehungsweise es sich herausstellen, dass Annahmen nicht korrekt waren, so können die tatsächlichen Ergebnisse, Leistungen und Erfolge von AIXTRON wesentlich von denjenigen Ergebnissen abweichen, die ausdrücklich oder implizit in der zukunftsgerichteten Aussage genannt worden sind.. Dies kann durch Faktoren verursacht werden, wie zum Beispiel die tatsächlich von AIXTRON erhaltenen Kundenaufträge, den Umfang der Marktnachfrage nach Depositionstechnologie, den Zeitpunkt der endgültigen Abnahme von Erzeugnissen durch die Kunden, das Finanzmarktklima und die Finanzierungsmöglichkeiten von AIXTRON, die allgemeinen Marktbedingungen für Depositionsanlagen, und das makroökonomische Umfeld, Stornierungen, Änderungen oder Verzögerungen bei Produktlieferungen, Beschränkungen der Produktionskapazität, lange Verkaufs- und Qualifizierungszyklen, Schwierigkeiten im Produktionsprozess, die allgemeine Entwicklung der Halbleiterindustrie, eine Verschärfung des Wettbewerbs, Wechselkursschwankungen, die Verfügbarkeit öffentlicher Mittel, Zinsschwankungen bzw. Änderung verfügbarer Zinskonditionen, Verzögerungen bei der Entwicklung und Vermarktung neuer Produkte, eine Verschlechterung der allgemeinen Wirtschaftslage sowie durch alle anderen Faktoren, die AIXTRON in öffentlichen Berichten und Meldungen, insbesondere im Abschnitt Risiken des Jahresberichts, beschrieben hat. In dieser Mitteilung enthaltene zukunftsgerichtete Aussagen beruhen auf den gegenwärtigen Einschätzungen und Prognosen des Vorstands basierend auf den zum Zeitpunkt dieser Mitteilung verfügbaren Informationen. AIXTRON übernimmt keine Verpflichtung zur Aktualisierung oder Überprüfung zukunftsgerichteter Aussagen wegen neuer Informationen, künftiger Ereignisse oder aus sonstigen Gründen, soweit keine ausdrückliche rechtliche Verpflichtung besteht.

Dieses Dokument liegt ebenfalls in englischer Übersetzung vor, bei Abweichungen geht die deutsche maßgebliche Fassung des Dokuments der englischen Übersetzung vor.

Unsere eingetragenen Warenzeichen: AIXACT^(R), AIXTRON^(R), APEVA^(R), Atomic Level SolutionS^(R), Close Coupled Showerhead^(R), CRIUS^(R), EXP^(R), EPISON^(R), Gas Foil Rotation^(R), Optacap(TM), OVPD^(R), Planetary Reactor^(R), PVPD^(R), STExS^(R), TriJet^(R)